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芯片上“长”出原子级薄晶体管
日期:2023-05-06
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责任编辑:sy_luxiaoyun
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美国麻省理工学院一个跨学科团队开发出一种低温生长工艺,可直接在硅芯片上有效且高效地“生长”二维(2D)过渡金属二硫化物(TMD)材料层,以实现更密集的集成。这项技术可能会让芯片密度更高、功能更强大。相关论文发表在最新一期《自然·纳米技术》杂志上。
原标题:芯片上“长”出原子级薄晶体管
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